标题:电解抛光工艺样品质量在精加工表面粗糙度测量仪

信息分类:站内新闻   作者:yiyi发布   时间:2015-3-31 13:00:25 将本页加入收藏

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正文:

电解抛光工艺样品质量在精加工表面粗糙度测量仪

  对于非常尖锐的干涉条纹来说,由于多次反射的光束
每经过50-100次反射都要稍微向旁边移动(离开),

因而在平表面上的解析率大约只有五个波长。另一方面
,其灵敏度非常之高,对表面形貌图中和阶梯高度可以
分辨到0.5nm。用干涉反差技术甚至可得到更高的分辨
率,这要把参考平面安放到平行于表面的位置上,在为
条件下可以使单个黑色条纹充满整个视场,而条纹横断
面上产生的光强变化实际上可探测出0.15nm的阶梯,大
大小于单个原子的高度。


  电解抛光工艺象抛光一样,在精加工表作一假想直线,
由此可得到表面上沿任意方向和表面轮廓,沿着这条线移动,
每移过一条纹表面上升(或下降)大约250nm(取决于光源波长)
。在条纹间用精密内插法99热这里只有精品,实际绘的轮廓图具有相当精度是可能的。











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